檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "Chiapyng Lee".eadvisor (精準) and ckeyword.raw="銅"
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本研究之目的為合成CuII(OCHMeCH2NEt2)2先驅物,並且利用此先驅物以化學氣相沈積的方法成長銅薄膜,藉由調整沈積溫度及沈積時間,探討成長出高純度且具有良好之平坦度、緻密性、連續性及低電阻…
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本研究主要提出一種新穎的二階段化學氣相沉積(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)成長銅晶種層(Seed layer)於氮化鉭(TaNx)阻障層薄膜的應用之…